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IMAGING / 3D CMOS FPD

3D CMOS FPD開発中

受光素子と信号処理回路を、別々のチップ・別々のプロセスで最適化してから積層する3D CMOS X線イメージセンサ。画素ごとの隔壁でシンチレータの光を閉じ込め、細かい構造までコントラストを保つ。

PHOTO

製品写真

※評価基板に実装した開発機。

SPECIFICATIONS

スペック

名称3D CMOS FPD
検出方式シンチレータ+3D積層CMOS(間接変換)
センサ厚300μm
有効撮像領域約205 x 205 mm
ピクセル数2048 x 2048 ピクセル
ピクセルピッチ100μm
解像度4.23 lp/mm(MTF 50%)
最大フレームレート150 fps
ビット深度14 bit
最小検出エネルギー—
動作モード低ゲインモード/高ゲインモード
シャッター方式グローバルシャッター
通信方式Camera Link x 2/GbE(GbEは動作速度に制約あり)
電源24V DC
外寸—
重量—
動作温度40℃以下(結露なきこと)
TECHNOLOGY

技術詳細

STRUCTURE

別々に最適化して、積層する

受光素子(フォトダイオード)と信号処理ASICは、最適な材料・プロセスがまったく異なる。それぞれを専用のプロセスで作り、フリップチップ接合で1つのセンサにする。配線はRDL(再配線層)で引き回し、電気的な接続にTSVは使わない。シンチレータは用途に合わせてGOS(産業・非破壊検査)かCsI(医療)を選ぶ。

ISOLATION

隔壁構造による光クロストークの抑制

基板裏面に掘ったホールアレイにシンチレータを充填し、画素ごとの隔壁にする。外周のリング構造と併用すると、光が隣の画素へ漏れることはほぼなくなる。

RESOLUTION

高周波でもコントラストを保つ

隔壁で光の広がりを抑えるため、細かい構造に当たる高い空間周波数でもコントラストが落ちにくい。RQA5条件の実測で、MTFが50%になる空間周波数は4.23 lp/mm。シンチレータを一様なシートで載せる従来のTFT方式(1.60 lp/mm)やCMOS方式(1.24 lp/mm)を大きく上回る。

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