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CHIPLET / PACKAGING

CoW 실장/다단 적층 실장개별 상담

양품 칩만 적층합니다. 다이 소트로 선별한 칩을 상대 웨이퍼에 접합하고, TSV·RDL로 수직 적층하며, 좁은 갭으로 배열해 대면적화합니다.

PHOTO

실장한 칩

손끝에 올린 칩렛 실물 사진
검출 소자와 ASIC을 접합한 다이 실물 사진
CASES

사례

자사 Imaging 제품에서 실제로 운용 중인 두 가지 공정.

ASIC 웨이퍼 → TSV+2층 RDL → μ범프+플립칩 접합 → 레이저 다이싱 → 모듈 시험 → PCB에 타일링 → 패널 시험

CASE · CdTe

TSV가 형성된 ASIC 웨이퍼에 CdTe를 올리고, 절단하고, 배열한다

  • 접합도금으로 μ범프를 형성하고 CdTe를 플립칩 접합(CoW)
  • 시험절단한 모듈을 전극 프로빙·테스트 펄스·X선으로 시험하고, 패널 상태에서도 X선으로 시험
  • 별도 루트도전 페이스트 인쇄에 의한 상온 적층 → Si 인터포저로의 타일링에도 대응

포토다이오드와 판독 ASIC을 따로 제작해 플립칩 접합하고, 배열하여 패널로 만든다

CASE · 3D-CMOS

PD와 ASIC을 병행 제작하고, 접합한 뒤 배열한다

  • 개별 제작포토다이오드와 판독 ASIC을 각각에 맞는 프로세스로 제작
  • 접합양품끼리 플립칩 접합
  • 설계 사상PD 측과 ASIC 측은 파운드리도 프로세스도 별개. 접합하기 전까지 서로의 제약을 끌어들이지 않는다
SPECIFICATIONS

대응 범위

실장 방식Chip on Wafer(CoW)/다단 적층 실장
접합20μmΦ 이하 범프를 이용한 저온·저압 접합
범프도금에 의한 μ범프(Sn/Ag)/도전 페이스트(Ag) 인쇄(상온 적층 가능)
층간 접속TSV·RDL(재배선층)
타일링Si 인터포저/PCB에 좁은 갭으로 배열
상태개별 상담
STRUCTURE

CoW와 다단 적층

20μmΦ 이하 범프를 이용한 저온·저압 접합으로 섬세한 화합물 반도체의 특성을 보호합니다.

  • CoW(Chip on Wafer)다이 소트로 선별한 양품 칩을 상대 웨이퍼에 접합합니다. 불량품끼리 적층하지 않습니다.
  • 다단 적층검출 소자/ASIC/인터포저를 TSV·RDL로 연결해 수직 적층합니다.
  • 범프도금에 의한 μ범프(Sn/Ag)와 도전 페이스트(Ag) 인쇄. 페이스트를 사용하면 상온에서 적층할 수 있습니다.
  • 타일링적층 칩을 Si 인터포저나 PCB에 좁은 갭으로 배열해 대면적화합니다.

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