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01 / Imaging

X射线图像传感器

从半导体设计、芯粒封装到相机设备化,实现一体化开发。以现有的CdTe PhotonCounting FPD为基础,计划通过拼接技术实现大面积化,拓展尺寸系列。

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CdTe PhotonCounting FPD主机与X射线成像演示的合成图
PRODUCT · 01

CdTe PhotonCounting FPD

  • 传感器CdTe
  • 检测方式直接转换 / 光子计数
  • 有效成像区域115.2 x 115.2mm
  • 状态工程样品
CdTe PhotonCounting Line Sensor产品示意图(3D建模)
PRODUCT · 02

CdTe PhotonCounting Line Sensor

  • 传感器CdTe
  • 检测方式直接转换 / 光子计数
  • 状态开发中
3D CMOS FPD叠层结构示意图(隔壁型闪烁体与读出CMOS的叠层)
PRODUCT · 03

3D CMOS FPD

  • 传感器隔壁型GoS / 隔壁型CsI
  • 检测方式间接转换 / 积分
  • 状态开发中
SERVICES

委托测量・委托成像

可使用CdTe PhotonCounting FPD及闪烁体方式FPD承接委托测量。使用开发中传感器(3D CMOS等)进行的样品评估,请参阅各产品页面的成像案例。

X射线源、样品与探测器的位置关系,以及透射图像/CT断层的输出示例
  • 支持的检测方式CdTe直接转换型与闪烁体方式均可支持
  • 用途无损检测、材质识别等现有产品可覆盖的各类成像需求
PROCESS

开发・制造工序

从作为探测器核心的半导体设计,到芯粒封装,再到相机设备的最终完成。Imaging产品的制造工序均由公司内部一体化完成,从而能够根据用途灵活调整规格。

01 / PROCESS

半导体设计

激光掺杂形成接合的截面图

通过低温、低压的激光掺杂将CdTe晶体与电极接合,并结合蒸镀、光刻、电镀工艺制造以像素为单位的器件。

  • 低温工艺消除导致晶体特性劣化的热损伤,保持CdTe的检测性能。
  • 低压接合抑制对精密半导体的机械应力,防止开裂和变形。
02 / PROCESS

芯粒封装

将检测元件与ASIC这两种不同的半导体接合,使其作为一个传感器发挥功能的封装技术。

  • 器件工艺
    金色柔性线路向四周延伸的传感器模块实物照片
    运用蒸镀、光刻、电镀、激光掺杂工艺制造像素器件。
  • ASIC开发・加工
    安装有读出集成电路(ASIC)的评估基板实物照片凸点阵列显微照片
    考虑器件特性与封装结构的读出集成电路开发。用于背面读出的TSV加工。
  • 封装工艺
    Ag浆料凸点接合部的截面SEM照片
    运用印刷、电镀形成20μmΦ以下的凸点,以及2.5D/3D封装。
03 / PROCESS

相机设备化

CdTe PhotonCounting FPD主机与X射线成像演示的合成图

将接合后的传感器与ASIC进行拼接,组装成相机设备。借助拼接技术,通过组合同一基本模块即可推出不同尺寸的产品。

04 / PROCESS

评估・量产支持

安装在工厂管道上的检测机器人实机照片

从传感器晶体到设备,众多工序均由公司内部完成(其他公司主要依赖采购和外包)。试制及委托业务也由公司自行承接。照片为应用传感器技术的检测机器人实际运行案例(安装于工厂管道)。

TECHNOLOGY

拼接

读出电路的信号通过TSV引至背面,因此模块四边可以紧密对接,几乎无缝地拼接排列。只需改变同一基本模块的排列数量,即可扩大成像面积。

截面图与俯视图对比:从边缘引出布线的常规方式会在模块之间形成无像素带,而通过TSV从背面读出的方式可使四边紧密对接排列
从边缘引出布线的方式会在模块之间形成无像素带。从背面读出则可使四边紧密对接排列。

技术咨询・样品评估咨询

从CdTe PhotonCounting FPD的样品评估,到路线图产品及定制化咨询,均可为您提供支持。

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