CdTeFPD

检测方式:间接转换型与直接转换型

下图左侧为间接转换型:利用一种受X射线照射会发光、称为闪烁体的物质将X射线转换为光,再由CMOS相机接收。转换为光时,光的方向无法控制,会向四周扩散,这正是图像模糊的成因。解决方法包括减薄闪烁体以减少扩散,或在每个像素之间设置隔壁使光反射等。但无论哪种方法,检测效率都会下降。

下图右侧为直接转换型,将X射线与物质相互作用产生的电子作为信号进行处理。即使元件较厚,由于施加了偏置电压,扩散也能被抑制到最低限度。因此可在不牺牲检测效率的前提下获得高对比度图像。

测量方式:积分方式与光子计数方式

处理检测器(相机)所获信号的方法大致分为两种。一种是积分方式,即对一定时间内获得的信号进行累积。此时相机的噪声也会一并累积,因此在剂量较低时噪声往往较为明显。

另一种是光子计数方式,逐个计数光的最小单位——光子。因此即使在剂量较低的情况下,也能获得无噪声的图像。

测量方式:能量分辨型光子计数

光子计数方式只是简单地获取光子数,实际上舍弃了光子本身所携带的能量信息(波长)。能量分辨型光子计数方式则同时利用这一能量信息。通常使用以光子数为纵轴、能量(keV)为横轴的直方图来表示。获取全能谱的电路较为复杂,在大面积平板探测器中尚未普及。

下图为使用MCA(多道分析器)测量X射线管的结果。理想情况是每个像素都具备这些信息,但由于电路规模、功耗、发热、数据传输量等问题,在X射线相机的大面积FPD中尚未实现。

测量方式:全局快门与卷帘快门

全局快门是所有像素同时曝光、同时获取图像的方式。由于一次性捕获整幅图像,即使拍摄运动物体也不易产生抖动模糊,可实现高速拍摄。

而卷帘快门则是按像素依次曝光、依次获取图像的方式。由于图像是逐像素获取的,被摄体或相机的运动可能导致图像畸变或运动模糊,因此适合拍摄低速物体或静止图像。

可见光CMOS传感器通常采用卷帘快门,沿用该技术的闪烁体型探测器也多采用卷帘快门。近来,可见光相机中也开始出现采用全局快门的产品。ANSeeN FPD采用全局快门,因此即使在高帧率下也能获得模糊较少的图像。

大面积半导体平板探测器难以实现的原因

与闪烁体相比,半导体元件的制造成本较高,且晶体尺寸存在上限,无法制造出比晶体尺寸更大的探测器。

半导体元件下方需要读出集成电路(ROIC),而从ROIC引出信号通常采用引线键合结构。因此需要预留读出空间,无法进行二维排列,只能制作横向排列的线阵传感器。 下图为从四边读出图像传感器的示例,属于完全无法拼接的结构。

通过3DLSI实现大面积化

传统ROIC仅能单面接合,需要预留读出空间,因此无法进行二维(纵向和横向)排列。为解决这一问题,我们自主设计、开发并制造了可正反两面接合的LSI。信号可从ROIC正下方引出,实现了无需读出空间的结构,从而使大面积化成为可能。

菊花链与帧率

从模块正下方引出的信号会传递给相邻的LSI。相邻LSI再将接收到的数据与自身数据一并传递给下一个LSI。横向排列数量越多,传输速度越慢,但由此实现了可自由布置的LSI。由于可按任意行数和列数排列,FPD和线阵传感器均可使用同一款LSI实现。

单个模块的最大帧率为800fps,但横向排列的模块数量增加时帧率会降低。例如横向排列12个模块时,800/12=66.666,最大约为66fps。

ANSeeN CdTeFPD的测量模式

(1)光子计数模式

用于输出光子数的最简单模式。为去除噪声,通过LLD设置阈值。由于不区分能量信息,无论是40keV还是100keV,均同样计为一次计数输出。

(2)单阈值模式

除用于去除噪声的LLD外,还可去除超过一定能量的光子。能量处于LLD~ULD范围内时,计入光子计数。

(3)双阈值模式

该模式将LLD至ULD之间计为低能计数,将超过ULD的计为高能计数并分别输出。由于数据传输量加倍,帧率为其他模式的一半。

(4)MDEI模式

其他模式输出光子数,而该模式输出的是经过能量加权的像素值。由此可获得接近传统积分型的图像,同时还能获得不累积噪声(积分型的弱点)的清晰图像。

以金属等为测量对象时,易遮蔽X射线的物质会透过较多高能光子。但如果仅考虑光子数,与传统成像方法相比,图像的明暗对比会较难体现。因此,通过对高能光子加权,可获得观感更为自然的图像。

CMOS与CdTe的比较

比较CdTe半导体FPD(直接转换型)与CMOS闪烁体FPD(间接转换型)的性能。CMOS的像素尺寸约为CdTe的1/4。

PARAMETER CMOS CdTe
SCINTILLATOR TYPE CsI:Tl
TOTAL PIXEL MATRIX(Pixels) 2400 x 3000 288 x 288 (3x3FPD)
1152 x 1152 (12x12FPD)
PIXEL PITCH(μm) 49.5 100
A/D CONVERSION(bits) 14(A/D Conversion) 16(photon count)
FRAME RATE(fps) 10 266 (3x3FPD)
66 (12x12FPD)
ENERGY RANGE(kV) 40 –225 40-450

动态范围比较

下图为CMOS的Normal (Full resolution) mode、Binning 2x2 mode以及ANSeeN CdTe FPD的剂量率依赖性(Typical Pixel)。使用110kV管电压,以各FPD的最高帧率拍摄10秒,并将累积图像换算为单位时间内的像素值和计数值。

MTF(边缘法)

采用边缘法求得的CdTe FPD调制传递函数(Modulation Transfer Function, MTF)如下图所示。成像时使用G-311VH-D作为X射线源,分别在RQA5、RQA6、RQA7、RQA8条件下,以FID 880mm将钨板置于检测面正前方,以1 fps拍摄60帧图像并累积,由所得数据求出MTF。

管道比较(透射图像)

对内径40mm、壁厚5.4mm的钢管,以2倍放大率(FOD510mm、FID 1020mm)、10fps拍摄10帧并进行平均处理。除比较检测器差异外,还分别以225kV 0.4mA和450kV 0.8mA进行拍摄,评估了X射线管管电压差异的影响。

X射线透射管道时,如下图所示,从外侧开始厚度急剧增加,面向内侧的部位厚度最大,越接近中央则逐渐变薄。

X射线的特性是能量越高,穿透力越强。这不仅使成像对象管道更易被穿透,X射线检测器也更易被穿透,从而导致检测效率下降。 如下图所示,选取背景和管道部分,比较其线轮廓。

CdTe对高能量同样有响应,450kV比225kV更易分辨厚度。而带有能量校正的MDEI模式则更容易识别厚度。

FPGA的比较(CT)

为使成像范围一致,对CMOS图像进行局部裁剪后再进行重建。 使用焦点尺寸为0.4mm的毫焦点X射线管,以2倍放大率(FOD510mm、FID 1020mm)拍摄。

CMOS 10fps(144秒)225kV 0.5mA

CMOS 10fps(144秒)225kV 1.0mA

CdTe 10fps(144秒)225kV 1.0mA

CdTe 60fps(24秒)225kV 2.0mA

CdTe 60fps(24秒)225kV 1.0mA

CBCT成像示例

焊球与轴承滚珠

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我公司配备110kV微焦点X射线管和450kV毫焦点X射线管。如有希望测量的样品,或对本网站内容、产品有任何疑问,以及共同开发等事宜,欢迎通过以下方式与我们联系。

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