CdTeFPD

檢測方法:間接轉換型與直接轉換型

下圖左側為間接轉換型:利用受X射線照射會發光、稱為閃爍體的物質將X射線轉換為光,再由CMOS相機接收。轉換為光時無法控制其方向,光會向四周擴散,這正是影像暈開(模糊)的原因。解決方法包括將閃爍體做薄以減少擴散,或在每個像素之間設置隔牆使光反射等。但無論哪種方法,都會使檢測效率下降。

下圖右側為直接轉換型,將X射線與物質交互作用所產生的電子作為訊號處理。即使元件具有一定厚度,由於施加了偏壓,擴散可被抑制在最小程度。因此能在不犧牲檢測效率的情況下,取得高對比度的影像。

量測方法:累積方式與光子計數方式

處理檢測器(相機)所得訊號的方法大致可分為兩種。一種是累積方式,將一定時間內取得的訊號進行累加。此時相機的雜訊也會一併累加,因此在低劑量條件下,雜訊容易變得明顯。

另一種是光子計數方式,將光的最小單位——光子一顆一顆地計數。因此即使在低劑量條件下,也能取得無雜訊的影像。

量測方法:能量鑑別型光子計數

光子計數方式只是單純取得光子數,實際上捨棄了光子原本所具有的能量資訊(波長)。而同時運用此能量資訊的,便是能量鑑別型光子計數方式。一般會使用以光子數為縱軸、能量(keV)為橫軸的直方圖來呈現。取得完整能譜的電路十分複雜,在大面積平板檢測器中尚未普及。

下圖為使用MCA(多頻道分析儀)量測X射線管的結果。理想情況是每個像素都具備這些資訊,但由於電路規模、功耗、發熱、資料傳輸量等課題,目前X射線相機的大面積FPD尚未實現。

量測方法:全域快門與捲簾快門

全域快門是所有像素同時曝光、同時取得影像的方法。由於一次擷取整張影像,即使拍攝移動中的物體也不易產生模糊,可進行高速拍攝。

另一方面,捲簾快門是各像素依序曝光、依序取得影像的方法。由於影像是逐像素取得,物體或相機的移動可能造成影像變形或動態模糊,因此較適合拍攝低速物體或靜態影像。

可見光CMOS感測器一般採用捲簾快門,沿用該技術的閃爍體型產品也多採用此方式。近年來,可見光相機中也開始出現採用全域快門的產品。ANSeeN FPD採用全域快門,即使在高fps下也能取得模糊極少的影像。

大面積半導體平板檢測器的難處

半導體元件的製造成本高於閃爍體,且晶體尺寸有其極限,無法製作出比晶體尺寸更大的檢測器。

半導體元件下方需要讀出積體電路(ROIC),而為了從ROIC取出訊號,一般採用打線接合的結構。因此需要預留讀出用的空間,無法進行二維排列,過去只能製作橫向排列的線型感測器。 下圖為影像感測器從四邊讀出的情形,是完全無法拼接的結構範例。

透過3DLSI實現大面積化

傳統ROIC僅能單面接合,需要讀出用空間,因此無法進行二維(縱向與橫向)排列。為解決此問題,我們自行設計、開發並製造了可在正反兩面接合的LSI。訊號可從ROIC正下方引出,實現了無需讀出用空間的結構,進而得以實現大面積化。

菊鏈與影格率

從模組正下方引出的訊號,會將資料傳遞給相鄰的LSI。相鄰的LSI再將接收到的資料與自身資料一併傳遞給下一個相鄰的LSI。雖然橫向排列的數量越多,傳輸速度就越慢,但成為了可自由配置的LSI。由於可配置任意行數與列數,FPD與線型感測器皆可使用同一款LSI實現。

單一模組的最大影格率為800fps,但橫向排列的模組數增加時速度會降低。例如橫向排列12個模組時,800/12=66.666,最高約為66fps。

ANSeeN CdTeFPD的量測模式

(1)光子計數模式

輸出光子數最簡單的模式。為去除雜訊,以LLD設定閾值。由於不區分能量資訊,無論是40keV或100keV,皆同樣計為一次計數輸出。

(2)單閾值模式

除了用於去除雜訊的LLD之外,此模式也會去除超過一定值的能量。能量落在LLD~ULD範圍內時,才列為光子計數對象。

(3)雙閾值模式

此模式將LLD至ULD範圍計為低能量計數,超過ULD者計為高能量計數並輸出。由於資料傳輸量增為2倍,影格率會是其他模式的一半。

(4)MDEI模式

相對於其他模式輸出光子數,此模式輸出的是經能量加權的像素值。藉此可取得接近傳統累積型的影像,同時也能取得不會累積雜訊(累積型的弱點)的清晰影像。

以金屬等為量測對象時,從容易遮蔽X射線的物質中穿透的多為高能量光子。然而若僅單純考量光子數,與傳統成像方法相比,濃淡對比會較不明顯。因此,透過對高能量進行加權,即可取得較無違和感的影像。

CMOS與CdTe的比較

比較CdTe半導體FPD(直接轉換型)與CMOS閃爍體FPD(間接轉換型)的性能。CMOS的像素尺寸約為CdTe的1/4。

PARAMETER CMOS CdTe
SCINTILLATOR TYPE CsI:Tl
TOTAL PIXEL MATRIX(Pixels) 2400 x 3000 288 x 288 (3x3FPD)
1152 x 1152 (12x12FPD)
PIXEL PITCH(μm) 49.5 100
A/D CONVERSION(bits) 14(A/D Conversion) 16(photon count)
FRAME RATE(fps) 10 266 (3x3FPD)
66 (12x12FPD)
ENERGY RANGE(kV) 40 –225 40-450

動態範圍比較

下圖為CMOS的Normal (Full resolution) mode、Binning 2x2 mode以及ANSeeN CdTe FPD的劑量率依存性(Typical Pixel)。使用管電壓110kV,以各FPD的最快影格率拍攝10秒,並將累加影像換算為單位時間的像素值與計數值。

MTF(邊緣法)

以邊緣法求得的CdTe FPD調制轉換函數(Modulation Transfer Function, MTF)如下圖所示。拍攝時使用G-311VH-D作為X射線源,針對RQA5、RQA6、RQA7、RQA8各條件,在FID 880mm下將鎢板置於檢測面正前方,以1 fps拍攝60張影像並累加,由該資料求得MTF。

管線比較(穿透影像)

將內徑40mm、厚度5.4mm的鐵製管線,以2倍放大率(FOD510mm、FID 1020mm)、10fps拍攝10張並進行平均處理。除了比較檢測器的差異,也分別以225kV 0.4mA與450kV 0.8mA拍攝,評估X射線管管電壓的差異。

X射線穿透管線時,如下圖所示,從外側起管壁厚度會急遽增加,面向內側的部分為最厚的部位,越接近中央則逐漸變薄。

X射線的特性是能量越高、穿透力越強。這不僅使拍攝對象的管線更容易被穿透,X射線檢測器也更容易被穿透,導致檢測效率下降。 如下圖所示,選取背景與管線部分,比較其線輪廓。

CdTe對高能量也有反應,450kV比225kV更容易辨識厚度。而具能量校正的MDEI模式則能更容易識別厚度。

FPGA比較(CT)

為使拍攝範圍一致,CMOS進行局部裁切後再進行重建。 使用焦點尺寸0.4mm的毫焦點X射線管,以2倍放大率(FOD510mm、FID 1020mm)拍攝。

CMOS 10fps(144秒)225kV 0.5mA

CMOS 10fps(144秒)225kV 1.0mA

CdTe 10fps(144秒)225kV 1.0mA

CdTe 60fps(24秒)225kV 2.0mA

CdTe 60fps(24秒)225kV 1.0mA

CBCT拍攝範例

錫球與軸承鋼珠

問題諮詢與展示拍攝

本公司備有110kV微焦點X射線管及450kV毫焦點X射線管。如有想要量測的樣品,或對本網站內容、產品有任何疑問,以及共同開發等相關事宜,歡迎與我們聯繫。

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